Resist zur dekorativen Sputterbeschichtung von Architekturglas

KIWOMASK IJ 7312/2 VP ist ein Inkjet-fähiges Druckmedium zur Maskierung von Flachglas vor der metallischen Beschichtung im Magnetron-Sputtering-Verfahren. 

• einkomponentig - keine Topfzeit
• gute Beständigkeit bei wässrigen Waschprozessen
• geruchsmild
• kompatibel mit gängigen Lösemittel-Digitaldruckköpfen
• gute Haftung beim Vakuum-Beschichtungsprozess
• strippbar mit milden Lösemittelreinigern

KIWOMASK IJ 7312/2 VP wird mit Lösemittel-Flachbett-Digitaldrucker auf die zu beschichtende Flachglasscheibe gedruckt. Der Resist maskiert die Bereiche, welche nicht gesputtert werden sollen. Nach dem Beschichtungsprozess kann es problemlos in einem manuellen oder maschinellen Reinigungsprozess mit milden Lösemittelreinigern aus dem KIWO CLEANLINE® Programm wieder entfernt werden.

• Farbe: blau
• Viskosität: 10 mPas*
• Feststoffgehalt: 19%
• Trocknungstemperatur: 30 Minuten bei 80°C oder 8 Minuten bei 150°.
• Maximale Trocknungstemperatur 180°C.

_{* Rheomat RM 180, MS 11, D=200 s-1, 23 °C}