KIWO auf der LOPEC

Steigende Anforderungen im Solar- und Elektronikbereich zwingen die Siebdruckschablone zu Höchstleistungen. Um hier bestehen zu können, reicht das alleinige Beschichten eines Gewebes mit Kopierschicht oft nicht mehr aus. Deshalb zeigt KIWO® ein komplettes System, bei dem die Schablone für unterschiedlichste Anforderungen weiter optimiert werden kann:

Die Basisbeschichtung erfolgt mit einer hochauflösenden Kopierschicht, z.B. AZOCOL® Z 177 FL oder AZOCOL® Z 177/1 FL. Bei Verwendung aggressiver Lösemittel oder noch höheren Auflagen wird die AZOCOL® Z 173/1 FL-H empfohlen.

Anschließend kann ESTELAN® D 271 TopCoat auf der Druckseite nachbeschichtet werden, welcher den Rz- Wert weiter verbessert und die Siebdruckschablone vor mechanischen Angriffen im Druckprozess schützt. 

Besonders im Solarbereich ist eine gleichmäßige Topografie der gedruckten Linie wichtig, damit Strom ungehindert fließen kann. Hierzu bietet KIWO das Produkt KIWOMIX® RA 1750 an, um das Pastenauslöseverhalten der Druckschablone zusätzlich zu unterstützen.

KIWO auf der LOPEC in München: Halle B0, Stand 120

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Bilder zum Artikel

REM (Rasterelektronenmikroskop)-Aufnahme der hochauflösenden Kopierschicht AZOCOL Z 177/1 FL auf 360-016 Metall-Gewebe, EOM: 21,3µm, 22,2µm Linie
Abbildung Kissel+Wolf: REM (Rasterelektronenmikroskop)-Aufnahme der hochauflösenden Kopierschicht AZOCOL Z 177/1 FL auf 360-016 Metall-Gewebe, EOM: 21,3µm, 22,2µm Linie
Profil eines Leitfingers, gedruckt auf Null-Grad-Gewebe
Abbildung Kissel+Wolf: Profil eines Leitfingers, gedruckt auf Null-Grad-Gewebe