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Anwendungen

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Finelinedruck

Branche: Elektronik und Solar

Beschreibung: Im Rahmen der gedruckten Elektronik gibt es zahlreiche Anwendungen für das Siebdruckverfahren. Hierzu zählen beispielsweise OLEDs, Touch Panels und LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics). Aktuell können hierbei bereits 20 μm und weniger aufgelöst und gedruckt werden.

Die Solarzellenherstellung zeigt einen weiteren Bereich auf, in welchem immer dünnere aber gleichzeitig höhere Finger aus Silberleitpaste gefordert werden. So sollen hohe Leistungsquerschnitte und eine möglichst geringe Lichtabschattung auf den Siliziumwafern erreicht werden. Es können bereits serienmäßig 35 μm feine Linien im Siebdruck realisiert werden.

Die Voraussetzung, um solch hohe Auflösungen erreichen zu können, ist das Zusammenspiel aus einer Anzahl von Parametern – einer davon ist die Kopierschicht. KIWO (Division of Kissel + Wolf GmbH) hat mit der AZOCOL® Z 170 FL und deren Weiterentwicklungen AZOCOL® Z 177 FL und AZOCOL® Z 173 FL-H qualitativ hochwertige Produkte entwickelt, welche genau da ihre Anwendung finden, wo beste Auflösung und Kantenschärfe auch bei höherem EOM gefordert werden. FL steht für Fineline, was so viel bedeutet wie Linienbreiten von 30 μm und weniger.

Warum Siebdruck: Hohe Schichtdicken für hohe Leitfähigkeit; Hohe Standzeit der Schablonen im Druck; Schnelle Taktzeiten

Bedruckstoff: Siliziumwafer, Keramiken, unterschiedliche Foliensubtraste

Druckform: Rauhigkeitswert der Druckform sollte möglichst niedrig sein, damit scharfkantige Linien abgebildet werden können.

Gewebe: Qualitativ hochwertige Edelstahlgewebe. Solar: 360-16, Elektronik: bis zu 730-13

Nachbehandlung: Ist von Anwendung abhängig; Solarpasten bspw. müssen eingebrannt werden

Anwendungen: Stromerzeugung, kapazitive Sensoren, ...

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Bilder zum Artikel

  • Hochauflösende Kopierschicht
    Hochauflösende Kopierschicht
  • 25 µm Leitfinger - gedruckt auf Siliziumwafer
    25 µm Leitfinger - gedruckt auf Siliziumwafer